不是新竹　台積悄宣布二奈米量產在「這廠」

財經中心／廖珪如報導

在2026年1月中法說會前，台積電選在2025年底在其官方網站的技術頁面上，悄悄地更新一行文字，那就是「台積電 2 奈米（N2）技術已按計畫於 2025 年第四季開始量產」。這份低調並未掩蓋其戰略意義，隨著 N2 製程的投產，全球半導體競爭已進入了以 GAA（全環繞閘極）架構為核心的新紀元。

根據台積電公布的技術參數，與前一代 N3E 製程相較，N2 在相同功耗下可提升 10% 至 15% 的效能。若在相同效能下，則能降低 25% 至 30% 的功耗。對於混合設計（包含邏輯、類比與 SRAM）而言，其電晶體密度可提升 15%。而針對純邏輯設計，密度增幅更高達 20%。

此外，N2 製程還導入了超高性能金屬絕緣體金屬（SHPMIM）電容器，這項創新為供電網路提供了比前代設計高出兩倍以上的電容密度，同時將片電阻（Rs）與通孔電阻（Rc）各降低了 50%。這些技術細節的改進，直接轉化為更穩定的供電、更卓越的運算性能以及更優化的整體能源效率。

台積電二奈米量產 魏哲家開年就宣布

回顧台積電法說會，二奈米量產時程有跡可循，台積電董事長魏哲家2025年1月法說會就點出「台灣部分將在台南擴增3奈米、新竹和高雄2奈米投資，2奈米進展順利，將在今年下半年量產。」而此次台積電低調宣布二奈米量產，意味著公司依循戰略計劃佈局，為整個產業帶來新篇章。

技術頁面全文：

台積公司2奈米（N2）技術已如期於2025年第四季開始量產。N2技術採用第一代奈米片（Nanosheet）電晶體技術，提供全製程節點的效能及功耗進步。台積公司並發展低阻值重置導線層與超高效能金屬層間電容以持續進行2奈米製程技術效能提升。

台積公司N2技術將成為業界在密度和能源效率上最為先進的半導體技術。N2技術採用領先的奈米片電晶體結構，將提供全製程節點的效能及功耗的進步，以滿足節能運算日益增加的需求。N2及其衍生技術將因我們持續強化的策略，進一步擴大台積公司的技術領先優勢。