財經中心/廖珪如報導
「SEMICON Taiwan 2025 」半導體先進製程科技論壇台積電演講。(圖/記者廖珪如攝影)台積電在今(9)日Semi展前的先進製程技術論壇上,由Dr. Jian Chen出席演說,在公開的資料中顯示其最新製程藍圖,從 N5、N3、N2 直到 A16、A14,展現持續可預測的演進節奏,台積電重申了其製程自 2019 年推出 N5 以來,公司維持兩到三年一個大世代、每年一個優化版本的規律。
2025 年即將量產的 N2,將是台積電首度導入環繞閘極(GAA Nanosheet)架構;隨後在 2026 年的 A16 節點,將採用 Super Power Rail (SPR) 背面供電技術,這被視為摩爾定律延續的重要里程碑。根據外媒報導,A16 相較 N2P 有望帶來 8–10% 效能提升與 15–20% 功耗下降,並進一步提升邏輯密度。
與此同時,台積電也強調先進封裝在 AI 時代的角色。從論壇中簡報顯示,若僅依靠製程縮小,從 28 奈米至 A16,單一光罩的算力提升約 80 倍;結合 CoWoS 等封裝技術,算力則可達 320 倍。台積電雖未將重心放在封裝細節,但數據凸顯:先進製程是基礎,封裝則是放大器,兩者缺一不可。
除了製程微縮與封裝的疊加,台積電也點出能效的重要性。A16 導入背面供電,把電源與訊號分層,減少電壓降與雜訊干擾,並釋放更多金層用於訊號傳輸。這項技術正面對標 Intel 的 PowerVia,顯示台積電在能效曲線上不打算落後。對 HPC 與行動處理器而言,能效已與算力同等重要。
未來的 HPC/AI 架構:以 chiplets、HBM 高速記憶體、SoIC 疊堆整合,並結合矽光子(Si Photonics)與光纖共封裝(CPO),為 AI 平台畫出的長期藍圖。台積電預估,AI 將推動全球半導體市場在 2030 年達到 1 兆美元規模。能源效率則是 AI 成長的核心,而推動這一切的基礎,是裝置架構、光刻、新材料與先進製程的持續創新。