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2026電路板大展 法人精選台廠最強5檔

記者 廖珪如 台北報導
2026/10/22 03:00:00
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2026台灣電路板展盛大登場,聚焦AI算力與高速傳輸技術。隨著AI伺服器主板層數大增與傳輸規格升級,臻鼎、華通等大廠積極展示高階HDI與厚板技術。同時,高階CCL材料快速向M9與M10演進,台光電與聯茂等積極卡位。面對原料供應吃緊與交期延長,中低階CCL漲價效應延續至2027年上半年,產業競爭核心轉向供應鏈管理。

 

AI ASIC平台持續演進,加上交換器規格由800G加速邁向1.6T與3.2T,帶動高階PCB及銅箔基板(CCL)材料展開新一輪技術與規格革新。隨著AI晶片尺寸與封裝面積擴大,AI伺服器主板層數已大幅提升至30至40層以上,帶動高層數(HLC)搭配高密度互連(HDI)的複合製程需求顯著增加。 臻鼎-KY(4958)、華通(2313)、台光電(2383)、聯茂(6213)、金居(8358)。(示意圖/AI生成)
AI ASIC平台持續演進,加上交換器規格由800G加速邁向1.6T與3.2T,帶動高階PCB及銅箔基板(CCL)材料展開新一輪技術與規格革新。隨著AI晶片尺寸與封裝面積擴大,AI伺服器主板層數已大幅提升至30至40層以上,帶動高層數(HLC)搭配高密度互連(HDI)的複合製程需求顯著增加。 臻鼎-KY(4958)、華通(2313)、台光電(2383)、聯茂(6213)、金居(8358)。(示意圖/AI生成)

2026年台灣電路板展覽會(TPCA Show)盛大登場,本屆展會以 Energy-Efficient AI:From Computing to Systems and Applications 為主題,聚焦於AI算力成長、高速傳輸及先進封裝技術升級對PCB產業帶來的強勁推升效能。隨著NVIDIA GPU與美系CSP AI ASIC平台持續演進,加上交換器規格由800G加速邁向1.6T與3.2T,帶動高階PCB及銅箔基板(CCL)材料展開新一輪技術與規格革新。隨著AI晶片尺寸與封裝面積擴大,AI伺服器主板層數已大幅提升至30至40層以上,帶動高層數(HLC)搭配高密度互連(HDI)的複合製程需求顯著增加。

此外,ABF載板亦同步朝大尺寸、高層數與低翹曲方向升級。在展會現場,各大PCB廠商皆展現積極的AI產品布局,其中臻鼎-KY(4958)展示30層HDI、24層N+M與34層厚板HDI,其採用M8與M8U低損耗材料,最高電鍍深寬比達42:1,同時展示800G、1.6T、XPO與NPO光通訊模組板。華通(2313)則展出M8等級42層HDI主板及M7等級24層設計,高階HLC現階段最高可達52層,並規劃於2027至2028年進一步推升至56與60層。

受惠於高速低損耗與高密度互連需求,高階CCL材料規格正由M7與M8快速演進至M9與M10,產業能見度已延伸至2030年。台光電(2383)旗下M9系列產品EM-896已於3Q26小量量產,預計2027年隨客戶新平台顯著放量,採Q-Glass方案的M10產品EM-898K4其Df降至0.0004,預計於1Q27進入NPI,並已展開下一代M11材料布局。

聯茂(6213)展出M10產品IT-Q10GSE4,採用碳氫樹脂搭配第二代Q布與HVLP4及HVLP5銅箔,在10GHz下Df達0.0004,積極送樣AI GPU及ASIC客戶,其M9等級材料IT-999GSE2與IT-999GSE3則以1H27放量為目標。金居(8358)高階銅箔布局明確,推出對應M8的PF51N(HVLP4+)及對應M9與M10的PF511(HVLP5),表面粗糙度Rz約0.45μm,預計透過設備更新與雲林三廠擴產,持續擴大高階產能。

在技術升級的同時,關鍵原材料與設備的供應瓶頸成為市場關注焦點。受AI需求帶動,低介電與低熱膨脹係數玻纖布Q/LDK Glass、低粗糙度銅箔HVLP3與HVLP4及高性能樹脂等高階規格需求大增。欣興董事長簡山傑於展會指出,2027年部分關鍵材料供需缺口可能達20%至40%,且部分設備交期最長達30個月。

由於高階產品排擠傳統產能,加上傳統E-Glass玻纖布供給偏緊,帶動中低階CCL價格持續調漲。聯茂表示3Q26旗下CCL產品漲幅已達15%以上,本土研究機構預估中低階CCL的漲價趨勢將一路延續至2027年上半年(1H27)。產業競爭重點已從單純的訂單爭取,轉變為原材料掌握與供應鏈管理能力。

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